006年，同时ASML也无法借助这一技术实现弯道超车。
光刻机领域依然是群雄逐鹿的状态，新芯光刻机有趁机偷鸡的机会。
这对新芯光刻机是利好，大家都不动的时候，就轮到新芯追赶了。
而新芯光刻机的半年报说了他们已经完成了130nm的光刻机研发，后续就是大量的实验以及进入生产环节提高良品率，这都是水磨工夫。
同样芯片制程无法进入65nm，对Matrix来说就没有那么友好了，Mphone将无法实现算力的进化，它和友商之间的差距也会被逐渐拉近。
而实现130nm制程的新芯光刻机一旦采取湿法工艺，它能以一个很短的速度跨越这道门槛，进入到78nm制程，相当于超越了所有光刻机厂商半代的差距。
但是一旦这道纱被掀开，其他光刻机厂商同样能够很快赶上。
周新回华国的最重要目的就是和林本坚讨论这件事，湿法工艺太关键，关键到周新不想通过邮件或者电话的方式，只能面谈。
(本章完)