计也是康驰让他们干什么，他们就干什么，思考空间并不多。
至于光刻机最后的一个关键系统，则是承载硅片的双工件台系统。
它的工作原理很简单，就是在光刻中不断的挪动硅片的曝光部位，但其中的技术含量其实非常大。
因为这个工作平台必须快、准、狠。
速度，决定了光刻机的效率，
移动太慢了，光刻机的产量就不行，
这就要求它，在高速移动后，还得迅速且精准地停下，
停留的位置误差，还得在1nm以内，
但凡偏差大一点，整个晶圆就直接报废了！
这啥概念？
大概就是一辆高速行驶的汽车，突然紧急刹停，然后停下位置误差还不能超过1毫米。
不过这个难点，在今年5月份的时候，刚好被铪工大给搞定了，
他们研发出来的真空高速超精激光干涉仪，位移的分辨率达到了惊人的5pm，位移误差控制在了30pm！
要知道，1000pm才等于1nm！
0.03nm的位移误差，简直牛逼到不行！
康驰简直怀疑，他们是不是和自己一样开了挂……
讲真，华国能人还是挺多的，
如果不靠系统，康驰自己虽然也有一定的把握可以攻克这种技术，但时间就不知道要多久了……
所以康驰一直也不断地在提醒自己，虽然系统确实好用，但自己学习和理解的脚步同样不能停下。
这不但是为了在解析技术的时候，减轻自己的痛苦，免得突然暴毙，更是为以后万一出现精通点不够，需要自研的情况出现时，不至于两眼一抹黑啥也干不了。
总之EUV光刻机的大部分技术难点，其实华国都已经攻克或即将攻克了，只不过具体哪些能够复刻落地量产，还是个未知数。
为了得到答案，康驰特地打了个电话给吕首长。
当听到康驰问光刻机的事情，吕首长顿时就打起了精神，连忙问道：“你准备搞光刻机研发？”
“嗯，有这个想法。”
“搞光刻机好啊！嗯……不过你不是忙着量产采油虫吗？哪来这么多的时间精力研发光刻机？”
“抽空玩玩呗……”
“……”
随后康驰又在吕首长的沉默中，咨询了关于常春光所EUV光源系统，和铪工大双工件台系统研究情况。
“嗯……他们确实都有了一定的突破，但具体到了什么技术节点，还有多久能实际落地，我也说不准……你可以找张院士问问，这方面他比较清楚。”
于是康驰挂了电话后，又拨通了张达远的电话，
结果张达远一听康驰的问题，直接就说电话上讲不清楚，让他过去燕京面谈。
康驰强烈怀疑，这老头就是想把他骗过去，忽悠他搞那个啥稳态微聚束光源，
但为了争取缩短光刻机研制周期的机会，康驰也不得不从了他……
反正过去后任他怎么说，康驰就是不跟他干，
他还能把康驰给扣了不成？
……
经过了两个多小时飞行，康驰在天黑前就抵达了燕京国际机场，
前来接机的是陈海的同事，三人汇合后，便直奔HEPS项目部。
经过层层安检和报备，康驰终于项目部里面，见到了带着安全帽，穿得像工地工人的张达远。
看到这个已经年近七十的老人，竟然还能精神抖擞地深居一线，亲自参与实验工程-->>