发，即将明年发布商用型号的超导量子计算机，它内部的核心零部件‘超导量子芯片’也是用光刻机生产的，而且对工艺要求很高，这需要高端光刻机。
倒是国内另外一些机构正在研发的光子量子计算机，虽然也需要光刻机来生产芯片，但是对光刻机的性能要求不算高。
而现在，随着这台第三代试验机的诞生，困扰智云集团，乃至困扰华夏电子工业的最后一道枷锁，就被彻底打破了。
所以现在徐申学最关心的问题就是：“这台原型机看起来已经相当成熟了，什么时候可以量产商用？”
海湾科技的CEO王道林道：“我们设计这台原型机的时候，就是奔着量产型号去的，从技术角度来说，我们已经打通了所有的技术环节，随时可以生产更多的HEUV-300A型的光刻机，但是它毕竟只是一台原型机，纵然理论可行，但是实际长时间使用会暴露什么问题，这依旧不明确，我们依旧需要对它进行一定时间的各种测试，找出来潜在的诸多问题。”
”但是下个月开始，我们可以为智云微电子开始提供少量的实验机型，用来进行前期的测试工作！”
“正式量产型号的话，还需要看后续的测试工作是否顺利，需要多长时间，而这方面还需要智云微电子这边进行配合！”
这个时候，徐申学看向了一旁跟着来视察的智云微电子的CEO丁成军：“你们这边还需要多久才能搞定这些测试工作？”
丁成军斟酌着了会后道：“我们订购EUV光刻机的话，必然是用在等效七纳米工艺以及未来的等效五纳米工艺之上的，目前我们的七纳米工艺的技术是建立在DUV浸润式光刻机之上的，而这一套工艺和EUV光刻机的工艺技术差别会很大！”
“之前我们虽然也获得了一些国外EUV光刻机的秘密资料，也尝试进行了理论上的工艺开发准备工作，但是依旧很不完善！”
“当然，单纯光刻机测试工作我们有信心在一年内完成，EUV光刻机的七纳米工艺有望在两年左右搞定！”
徐申学心中盘算了一番，这意味着明年冬天左右EUV光刻机的量产型号，就能批量生产交付给智云微电子，等到后年下半年话应该就能完成EUV光刻机等效七纳米工艺的技术认证，大后年初开始大规模投产。
进而取代现在死贵又不好用的DUV浸润式光刻机的等效七纳米工艺。
这个时间表还可以接受。
至少比竞争对手ASML加台积电要快……
为什么？
因为按照徐申学手底下情报部门的打听，ASML那边的EUV光刻机项目一直都谈不上多顺利……也不是说技术不行，他们的技术来源全球各地，能获得很不错的各种子系统。
主要是今天这里出问题，明天那里出问题，拖时间……搞起来各种破事太多！
嗯，基本都是银河安保的功劳！
ASML今年年初才推出了第四代的实验机型，听情报部门反馈，他们的第四代实验机型的分辨率做到了十六纳米，但是套刻精度依旧只有两点五纳米，属于典型的实验机型，用来进行商业生产就不太划算了。
这种第四代实验机型夏天的时候，刚交付给了台积电进行各种测试……银河安保尝试过进行阻挠，不过水果和高通、AMD等一大票美国芯片厂商，现在都指望着台积电的技术能紧跟智云微电子，甚至超越智云微电子呢。
因为现在美国自己已经没有先进的专业芯片代工厂了……AMD的芯片工厂早就出售，现在也没落了，使用的还是四星的落后十四纳米工艺技术，英特尔现在也困在十四纳米工艺，而且英特尔也不对外代工。
所以现在这些欧美的芯片厂商面对智云集团的来势汹汹的竞争，为了保持技-->>